第141章 没想到大佬这么直接要自己开干

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目前，阿斯麦尔的光刻机已经进入了euv（极紫外光）光刻系统，去年，刚刚发售第二代euv系统，nxe：3300b。

        已经可以一次曝光做到22nm以内的工艺制程，当然它的价格超过了2亿米元。

        江成前世对光刻这产业并不熟悉，目前还是在深入研究过程中。

        当然，他越了解，越觉得这个公司是整个产业链（西方）供起了来的。

        德国的镜头，日国的材料，米国的光源……

        但目前华国的水平却依旧落后。

        整个国产光刻机，只有魔都微电子做得稍微好一些，但目前主要针对封装光刻机。

        去年8月，刚刚发布了am-oledtft电路制造的ssb225/10，但分辨率只有2uml/s，精度0.6um，也就是600nm制程。ъìqυgΕtv.℃ǒΜ

        制程落后，良品率也不行。

        而部件中最为重要的镜头部件，江成目前只看到有常春光机所在持续研发；至于双工作台部件，目前水木大学精密仪器仪正在研发。

        此外，据说刚刚成立不久的起尔机电，将在流体净化和测控，也就是浸没式系统方面进行发力。

        多数仍是在实验中研发，还没有形成商用可能。

        更不提光刻胶、光刻气体、光掩模版、光刻机缺陷检测设备、涂胶显影设备这些材料、设备了。

        难！真的是太难了！

        这些天里头，虽然江成全身心地在体内模拟实验室里头，进行了深入的分析和模拟实验。

        但对于这款制程落后的光刻机，他仍旧非常不熟悉。

        这种不熟悉，是因为江成他，看不懂。

        需要光学、机械、材料、自动化、计算机软硬件等诸多专业知识。

        江成目前仅对计算机软件更熟悉一些，硬件这块都还准备跟着徐伟教授学习，至于其他方向，那真不是他有精力去钻研了。

        当然，后面学有余力的时候，涉猎一二倒是可以。

        暂时收起了研发光刻机的冲动，又是新的一个学期了，江成必须开启新的学习和研发进程。

        学习上，在继续深入多维脉冲神经网络结构之外，还需要学习半导体硬件相关知识。

        而研发上，江成需要主攻soc芯片，以及牵头eda软件设计研发。

    

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